黄光制程/双工位曝光机

平行光源单面双工位曝光机专门用于FILM黄光制程而设计制作的专用设备，系统采用进口平行光源、双工位抽屉进出曝光平台交替工作进行FILM湿膜、干膜曝光。

设备特点

1.双工位曝光机双工位平台真空吸附将FILM与MASK贴紧，曝光解析度20UM。

2.采用进口曲面MIRROR反射光学系统，曝光均匀度: > 90%

3.灯源: UV能量积分器进行曝光能量设置和控制主动风冷式降温保护(有紧急停止保护)

4.智慧型人机界面及曝光能量控制(能量模式及时间模式)

5.双工位曝光机平台真空将FILM与MASK贴紧(使用鉻版时可不用）

设备型号：ZKUE-M552