【正凯机电】平行曝光机介绍及应用

平行光曝光机双工位曝光机专门用于FILM黄光制程而设计制作的专用设备，系统采用进口平行光源、双工位抽屉进出曝光平台交替工作进行FILM湿膜、干膜曝光。双工位平台真空吸附将FILM与MASK贴紧，曝光解析度20UM。
尺寸规格:
有效曝光面积400MM x 500MM
曝光平台面积> 500MM x 600MM
机台外尺寸: W1350MM x L3250MM x H2350MM
曝光方式:单面曝光，玻璃VS玻璃x 2组，采用电磁锁控制
曝光灯管: 5KW x 1PCS(平行光曝光灯)
曝光光强> 20MW/Cm，灯管保用800H
平行光曝光机曝光均匀度: > 90%
曝光精度:线路宽30UM，线间距30UM
曝光能量设置: 365NM
曝光控制器:智慧型人机界面及曝光能量控制(能量模式及时间模式)
设备型号：ZKUE-M552平行光曝光机

正凯机电作为光和热系列自动化设备制造商曝光机为各类产品之一。19年的研发、设计、制作设备的专业经验，可根据客户需求定制设备。如有需要请联系13960450755或搜索正凯机电设备了解更多信息。